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小型磁控濺射儀

簡(jiǎn)要描述:JS-600M小型磁控濺射儀采用二極(DC)直流濺射原理設計,帶磁控靶頭,有水冷功能。設備操作簡(jiǎn)單方便,適用于掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備,非導體材料實(shí)驗電極的制作。磁控濺射為冷濺射,對樣品表面的升溫較低,適用對溫度較敏感的薄膜樣品。用戶(hù)可以根據自己的需要自行選擇不同的真空條件,濺射電流。大尺寸的真空腔體設計,滿(mǎn)足大樣品的濺射需求。

  • 產(chǎn)品型號:JS-600M
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2024-03-28
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:1768
詳情介紹

一、產(chǎn)品應用:

JS-600M小型磁控濺射儀采用二極(DC)直流濺射原理設計,帶磁控靶頭,有水冷功能。設備操作簡(jiǎn)單方便,適用于掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備,非導體材料實(shí)驗電極的制作。

磁控濺射為冷濺射,對樣品表面的升溫較低,適用對溫度較敏感的薄膜樣品。用戶(hù)可以根據自己的需要自行選擇不同的真空條件,濺射電流。大尺寸的真空腔體設計,滿(mǎn)足大樣品的濺射需求。標配一片金靶,純度為99.999%,為獲得高質(zhì)量的金膜提供了良好的基礎。

二、配置及技術(shù)指標:

1.本系統裝配了水冷卻磁控靶,靶面直徑為50mm;

2.主機規格:L360mm*W300mm*H380mm;

3.靶(上部電極):金:直徑:50mm,厚度:0.1mm;

4.真空樣品室:直徑:160mm,高:110mm;

5.濺射面積:Ф50mm;

6.工作真空:2×10-1—6×10-2 mbar;

7.離子電流表:0-100mA;

8.定時(shí)器:根據濺射習慣設定單次濺射時(shí)間;

9.針閥: 配有進(jìn)氣口,微量充氣調節,可連接φ4*2.5mm軟管;

10.工作室工作媒介氣體:空氣或氬氣等多種氣體;

11.濺射電壓:-1600 DCV;

12.飛躍真空泵(VRD-4):1.1L/S。

三、產(chǎn)品特點(diǎn):

1.輕便、濺射面積大;

2.可以濺射鉑、金、銀及氧化鋅;

3.濺射效率高,可水冷降溫;

備注:JS-600M小型磁控濺射儀可適用的靶材:金、鉑、銀。





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